公司创立于1999年7月，专注于半导体行业，致力于为用户提供集成电路关键工艺材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案，是世界先进的半导体材料研发生产企业之一。公司始终坚持以技术为主导，面向国际前沿技术、国家产业需求，坚持自主研发创新，围绕“电子电镀、电子清洗、电子光刻、电子研磨、电子刻蚀”五大核心技术，持续研发创新。目前形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀、电子清洗、电子光刻、电子研磨、电子蚀刻五大核心技术，用于晶圆电镀与晶圆清洗的第二代核心技术已达到国内领先水平，用于存储芯片蚀刻的第五大核心技术已处于国际领先水平，其中第二代电子电镀和电子清洗两大核心技术与产品在芯片铜互连和刻蚀后清洗工艺是国内唯一可以做到90-14nm各技术节点全覆盖，对逻辑电路、模拟电路、存储电路各产品全满足，已成为国内百余家集成电路制造公司主流供应商。公司先后多次承担国家科技重大专项，获得上海市政府授予的“集成电路关键工艺材料重点实验室”企业，是长三角国家创新中心联合创新企业，是中国集成电路关键工艺材料领域知名品牌与龙头企业。公司围绕半导体制造关键工艺材料深耕细作，持续创新提升产品性能，为用户提供关键工艺化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案，提升公司行业领先水平和品牌影响力，成为半导体材料行业引领者。

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主要业务:

主营业务为半导体行业所需电子化学品的研发,生产和销售服务.公司主要产品为应用于半导体行业的电子化学品和配套设备.